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IPEC引領(lǐng)多模產(chǎn)業(yè),探索200G/Lane MMF光層標(biāo)準(zhǔn)

摘要:2025年初,IPEC立項(xiàng)1.6T SR8標(biāo)準(zhǔn),美團(tuán)、中國(guó)電信等成員探討200G/Lane MMF解決方案,聚焦波長(zhǎng)方案、模式色散、光電器件性能等關(guān)鍵技術(shù),目標(biāo)挑戰(zhàn)100m傳輸距離,標(biāo)準(zhǔn)預(yù)計(jì)2026年發(fā)布。

  ICC訊 在高速數(shù)據(jù)通信技術(shù)持續(xù)演進(jìn)的浪潮中,200G/Lane多模技術(shù)正逐漸成為行業(yè)焦點(diǎn)。2025年初,IPEC正式立項(xiàng)1.6T SR8標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)目,美團(tuán)、中國(guó)電信、中國(guó)信息通信研究院、華為、長(zhǎng)飛、新華三、華工正源、海信寬帶、光迅等IPEC成員共同探討200G/Lane MMF解決方案,旨在為200G/Lane MMF技術(shù)的發(fā)展提供統(tǒng)一的技術(shù)規(guī)范和指導(dǎo)框架,該標(biāo)準(zhǔn)預(yù)計(jì)2026年正式發(fā)布,傳輸距離目標(biāo)挑戰(zhàn)100m。

  隨著單波速率的不斷提升,200G/Lane MMF的性能面臨著機(jī)遇與挑戰(zhàn),IPEC從標(biāo)準(zhǔn)平臺(tái)角度出發(fā),積極組織聯(lián)合200G/Lane MMF產(chǎn)業(yè)鏈上下游公司,圍繞一系列多模關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題展開持續(xù)討論:

  1. 200G VCSEL波長(zhǎng)方案

  根據(jù)當(dāng)前IPEC標(biāo)準(zhǔn)討論的情況,傳統(tǒng)的850nm波段依然是200G VCSEL波長(zhǎng)方案首選,850nm波段在多模光纖通信中有著廣泛的應(yīng)用歷史,光源技術(shù)相對(duì)簡(jiǎn)單,光模塊的制造難度和成本都較低,這使得基于該波長(zhǎng)的200G/Lane MMF系統(tǒng)在初期部署時(shí)具有顯著的經(jīng)濟(jì)優(yōu)勢(shì)。同時(shí)IPEC標(biāo)準(zhǔn)討論中也提到200G VCSEL波長(zhǎng)有向長(zhǎng)波長(zhǎng)漂移的趨勢(shì),這也是需要多模產(chǎn)業(yè)鏈共同關(guān)注和探討的技術(shù)問(wèn)題。

  2. 模式色散與信號(hào)完整性

  多模光纖中的模式色散是影響200G/Lane MMF信號(hào)傳輸質(zhì)量的主要因素之一。隨著數(shù)據(jù)傳輸速率提升至200G/Lane,不同模式的光在光纖中傳播速度的差異會(huì)導(dǎo)致信號(hào)在傳輸過(guò)程中發(fā)生展寬和失真。這可能需要光模塊采用更加強(qiáng)大的均衡技術(shù),以補(bǔ)償由于模式色散引起的信號(hào)畸變。同時(shí),在光纖制造工藝上也需要不斷改進(jìn),降低模式色散系數(shù),提高光纖對(duì)高速多模信號(hào)的傳輸能力。

 3. 光電器件性能提升

  要實(shí)現(xiàn)200G/Lane MMF系統(tǒng)性能的優(yōu)化,光電器件的性能提升至關(guān)重要。發(fā)射端光模塊需要具備更高的帶寬和更低的功耗,以滿足日益增長(zhǎng)的數(shù)據(jù)傳輸需求并降低運(yùn)營(yíng)成本。此外,進(jìn)一步減小光電子芯片尺寸,降低封裝成本,對(duì)推動(dòng)200G/Lane MMF技術(shù)在更多場(chǎng)景中的應(yīng)用也有著重大的意義。

  面對(duì)200G/Lane MMF系統(tǒng)性能優(yōu)化的挑戰(zhàn),多模產(chǎn)業(yè)鏈上下游齊聚一堂,在IPEC月度工作組例會(huì)上持續(xù)分享和討論關(guān)于200G/Lane MMF的技術(shù)探索進(jìn)展,在剛剛過(guò)去的IPEC例會(huì)上,來(lái)自長(zhǎng)飛的多模光纖專家分享了適配200G VCSEL的多模光纖研究進(jìn)展,會(huì)上IPEC成員圍繞200G/Lane MMF系統(tǒng)性能優(yōu)化展開討論,提高光纖EMB,進(jìn)一步提升VCSEL芯片帶寬將會(huì)是提升200G/Lane MMF光模塊傳輸性能的重要方向。在5月23號(hào)即將到來(lái)的IPEC例會(huì)上,更多的多模產(chǎn)業(yè)鏈上下游單位將繼續(xù)圍繞200G/Lane MMF測(cè)試進(jìn)展以及關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行分享和討論,IPEC歡迎行業(yè)專家共同參與相關(guān)討論。

  展望未來(lái):200G/Lane MMF技術(shù)的持續(xù)發(fā)展

  以IPEC 200G/Lane MMF標(biāo)準(zhǔn)為契機(jī),整個(gè)行業(yè)正在積極開展多模性能優(yōu)化的探索與實(shí)踐。盡管面臨諸多挑戰(zhàn),但在行業(yè)各界的共同努力下,200G/Lane MMF技術(shù)正向著更高速率、更遠(yuǎn)傳輸距離、更高可靠性和更低成本的方向穩(wěn)步發(fā)展,有望在未來(lái)通信網(wǎng)絡(luò)中書寫新的篇章。

 

  **關(guān)于IPEC**

  IPEC國(guó)際光電委員會(huì)(www.ipec-std.org)致力于建立充分開放、透明、公平、公正的光電標(biāo)準(zhǔn)和光電子產(chǎn)業(yè)平臺(tái),并聚焦于光芯片、光/電器件、光模塊和其他相關(guān)領(lǐng)域解決方案的標(biāo)準(zhǔn)化和戰(zhàn)略路標(biāo)研究,以滿足5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等市場(chǎng)應(yīng)用的光電需求。

  IPEC注冊(cè)于瑞士,對(duì)任何有意愿加入的單位開放。所有成員單位均有機(jī)會(huì)在公平、透明的基礎(chǔ)上參與IPEC標(biāo)準(zhǔn)的制定。


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